3D接觸角測量儀/水滴角測量儀應(yīng)用于晶圓 wafer接觸角測值

 美國科諾研制的3D接觸角測量儀針對材料表面的化學(xué)多樣性、異構(gòu)性、表面粗糙度的影響分析具有非常強的實際價值。同時，由于大部分材料的測試表面水平度不夠水平、測試儀器的水平度調(diào)整不夠，也會出現(xiàn)角度的偏差。

在具體應(yīng)用中，主要體現(xiàn)為：

1、測試材料表面的清潔度：分析如液晶玻璃、手機玻璃、PCB板、硅片、晶圓、wafer表面的接觸角值，評估其等離子清洗效果。如果出現(xiàn)左、右角度值偏差超過一定的范圍，即視為清潔失敗。這種方法可以實現(xiàn)快速（一滴液滴即可完成評估）、（角度值誤差1度之內(nèi)）。

2、評估材料的多樣性情況：通常評估左、右角度值是否均勻，分析材料本身的涂布效果等。

在應(yīng)用中，如下為一張頂視條件下的wafer表面的水滴角圖片及其擬合效果圖。

通過圖片可以明顯看出側(cè)視條件下無法看到的情況，擬合的輪廓無法用圓實現(xiàn)擬合。主要是因為光刻蝕后形成的電路結(jié)構(gòu)影響了水滴的吸附，因而，此種情況下只有3D接觸角測量儀才能完成相應(yīng)的測值。